ps怎么通過雙重曝光的設(shè)計頭像？憑借PS可以把照片制做雙重曝光效果，這樣我們怎摸做一個比較漂亮的雙重曝光頭像呢，大家不如跟我一起學(xué)習(xí)制作一下，本次教程在用軟件為PS2017CC免直接安裝版，大家學(xué)可以

ps怎么通過雙重曝光的設(shè)計頭像？

憑借PS可以把照片制做雙重曝光效果，這樣我們怎摸做一個比較漂亮的雙重曝光頭像呢，大家不如跟我一起學(xué)習(xí)制作一下，本次教程在用軟件為PS2017CC免直接安裝版，大家學(xué)可以跟我用一樣的的版本，更方便大家看懂，私戳2017再試一下。

目標(biāo)用PS再打開圖片，另外ctrlJ截圖一層

第二步對第二個圖層摳圖處理，你選擇工具欄【急速你選擇工具】改選人物

右鍵羽化幾個像素

不能執(zhí)行菜單欄【選擇】-【逆方向】然后再按【del】鍵刪除

第二步在摳出的圖層下面空白文檔另一個灰色背景圖層

第四步對人物先執(zhí)行菜單【圖像】-【調(diào)整】-【漸變映射】

把圖片拓寬思維一些，最簡單真接用布料裁剪工具往外拉

第五步把素材圖片越過來，根據(jù)情況比較合適的角度，素材自己選擇就好，就是為了比較方便變動可以減少不透明度調(diào)整

按到ctrl加鼠標(biāo)左鍵點擊人物圖層出現(xiàn)選區(qū)

點擊素材圖層去添加蒙板

然后把圖層不透明度調(diào)回來百分百

第六步把人物圖層截圖一層，拉到最上面的圖層，圖層模式中改變量，不透明度降底些

然后再添加兩個蒙板，直接涂抹一些想凸顯出的區(qū)域

這樣素材的顏色好是與背景顏色相近，全部我改一下背景圖層顏色（一一你選擇）

第七步把素材圖層截圖一層，徹底刪除蒙板

把圖層模式替換成【變亮】再次出現(xiàn)效果

剛建另一個蒙板，按ctrlI反相，然后用黑色畫筆涂要想直接出現(xiàn)的區(qū)域

直接點擊第一個素材蒙板，使用紫色畫筆涂抹出臉型

按ctrlshiftalte鍵章印圖層，圖層模式中改柔光

好了，那樣我們就出現(xiàn)了最終的效果圖了

ps cc和ps的區(qū)別？

區(qū)別:：

1、設(shè)計方面:cs6是可以編輯圓角矩形;是可以第二次選擇類型多個路徑。

2、3D處理方面:ps2020有全新的實時自動紋理編輯;未照亮紋理編輯模式,而ps是沒有此功能。

3、相機防手抖方面:pscc是可以能挽救而且相機震蕩而失敗的話的相片,不論清晰是因此慢速快門或長焦焦距造成的